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Zmags
为高亮度LED 的制造生产技术提供最佳解决方案
光学光刻技术和光刻胶技术工艺运用的最好应用
纳米光刻压印在图案化蓝宝石基板(PSS) 工艺技术的最好应用
圆晶键合层转移工艺流程的最好应用
薄圆晶和弯曲圆晶片的处理操作和工艺流程设计工艺技术的最好应用
为满足LED 大生产制造的需求,
EVG 集团隆重推出第二代EVG620HBL 光刻系统
EVG 集团隆重推出第二代EVG620HBL 光刻系统
新一代的高亮度LED 光刻系统 更具有前所未有 的大生产成本优势 EVG®620HBL Gen II
www.EVGroup.com
Beijing Future Speeds, Inc.
Dymek Company Ltd.
(右上角) ISSN to be assigned
semiconductorTODAY
针对亚洲中文读者的化合物及先进半导体新闻杂志 A S I A
2012 年 5 月第 1 卷第 2 期 www.semiconductor-today.com
氮化物和磷化物 LED 的效
率骤降的解决新方法
NICT 展示了第一个氧化镓
晶体管
AIXTRON培训示范中心在苏州SINANO成立·台积电太阳能投入生产·
丰田合成和 SDK 建立 GaN 基 LED 的合资企业·
Oclaro 和 Opnext 合并·Emcore 和三安的合资公司 Suncore 开设工厂
Light Up the World.
Introducing MaxBright MOCVD System
Veeco: Driving the Future of LED Lighting
为高亮度LED 的制造生产技术提供最佳解决方案 光学光刻技术和光刻胶技术工艺运用的最好应用
(右上角) ISSN to be assigned semiconductorTODAY 针对亚洲
Light Up the World. Introducing MaxBright MOCVD S
3 目录 contents 新闻 News 市场 Markets
4 社论 editorial 欢迎阅读最新一期的《今日半导体亚洲版》 欢迎阅读最新一期的今日
5 Industry's largest and most productive
6 新闻 news 背光和照明应用需求的上升有望削减2012年LED 供过于求的情况 201
新闻:市场 News: Markets 7 用于生产GaN LED的MOCVD交付量在201
8 新闻:微电子 News: Microelectronics TriQuint公司在新加坡开
堓含㒟䱾✛Ⓤ夏 䏶ℽ/('⃚恾 常(9$7(&㒟⇯浧摞ℶ/('堓含ぴ唉䤓↨⇃⅝,72
10 新闻:材料和工艺设备 News: Materials and processing e
新闻:材料和工艺设备 News: Materials and processing equip
12 新闻:材料和工艺设备 News: Materials and processing e
新闻:材料和工艺设备 News: Materials and processing equip
14 新闻:LEDs News: LEDs Veeco在签字仪式上确认对韩国研发中心的投资
新闻:材料与加工设备 News: Materials and processing equip
16 新闻:LEDs News: LEDs 林德联华中国为Kaistar供应氨气 美国市场
18 新闻:LEDs News: LEDs 硅光电子公司Kotura与日本Nissho签署在日
新闻:LEDs News: LEDs 19
20 新闻: 光通信 News: Optical communications Oclaro
新闻:光通信 News: Optical communications 21 Oclaro的
22 新闻: 光通信 News: Optical communications Emcore
新闻: 光伏 News: Photovoltaics 23 Emcore和三安的合资公司Su
24 技术聚焦:微电子材料 NICT展示了第一个氧化镓晶体管 高击穿电压和低开关损耗,结合功率
技术聚焦:微电子材料 8235 潜力,可以使开关操作过程功率损耗 大大减少,使他们适合用作实际的
26 技术聚焦:氮化物晶体管 三栅极应用于制造常关型氮化物 半导体晶体管 MIT把开/关电流比
图2.(a)栅电极沉积之前凹入式三栅结构的扫描电子显微镜(SEM)俯视图像;(b)对应 于(a)结
28 技术聚焦:氮化物晶体管 双异质结的击穿电压加倍 中国的西安电子科技大学展示了AlGaN/
8.48x1012/cm2。双异质结样品的 2DEG的迁移率为1605cm2/Vs,电 子浓度为1
30 技术聚焦:氮化物晶体管 具有p-GaN背势垒和凹槽的氮化 物HEMT 韩国研究人员在凹槽栅
背势垒的一个预期效果是减少缓冲 层泄漏。两独立电极之间的测量表 明,对于具有p-GaN背势垒的异质
32 技术聚焦:氮化物LEDs 氮化物纳米柱LED发射红外光 日本上智大学展示了具有高铟组分活
技术聚焦:氮化物LEDs 33 最高掺杂器件的开启电压为1V。 在1mA(30A/cm2)时,电
34 技术聚焦:氮化物LEDs 绿光LED受益于梯度阻挡 中国科学院的研究人员使用梯度电子阻挡
技术聚焦:氮化物LEDs 35 压减少了0.38V。研究人员说:“在 活性区的极化场产生了大的三
36 技术聚焦: LED 氮化物和磷化物LED的效率骤降 的解决新方法 对于氮化物半导体LED
非常不平衡的情况,移动为 18.3nm,在十倍以上。 不平衡的载流子浓度的另一个效应 是,高电场
38 技术聚焦: LED 随着温度的升高,空穴数量增加, 高能级注入的发生被延迟,峰值效率 漂移
图3.实验对正向偏压的依赖,LED具有三个区域。插图:理想因子作为电流的函数,同时 显示了低电流注
40 技术聚焦: LED 图5.汉阳/RPI/三星的AlGaInPLED的外量子效率随电流的变化,
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42 市场聚焦:GaN功率电子器件 几年内GaN功率电子市场可能超 过10亿美元, 据市场研究
市场聚焦:GaN功率电子器件 43 化战略,转换他们现有的过剩的LED 产能到功率电子器件。不过
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